진공코팅시스템

진공 코팅 시스템 Vacuum Coating System

01. Roll to Roll Coating System
Roll to Roll 코팅시스템은 Flexible한 소재의 연속 박막코팅을 가능하게 하여 FCCL의 제조, FPCB의 제조, 각종 기능성 Film의 제조, 차세대 Display인 Flexible OLED의 제조 및 Flexible 태양 전지의 제조에 넓게 사용되는 장비이다.

– Film Width : up to 1,100mm available

02. Batch Type Coating System
지우기술의 Batch Type Coating System은 상업용 진공코팅장비로, Plastic류, Lens류, EMI Filter, Optical Filter, 반사판, 장신구 등의 대량코팅에 사용한다.

Lon Plating System (Supercoaty ZIP Series)

Description Standard Model ZIP – 08 ZIP – 10 ZIP – 12 ZIP – 15
Chamber Size(mm) dia.800 x H850 dia.1000 x H1100 dia.1200 x H1300 dia.1500 x H1600
Jig Assembly Rotationg Jig
Substrate Bias Source DC or RF
Substrate Heating Micro Sheath Heater, Max 350 ℃
Vacuum Pump Oil Diffusion 8500ℓ/min 8500ℓ/min x 2ea 13000ℓ/min x 2ea 15000ℓ/min x 2ea
Rotary 3000ℓ/min 3000ℓ/min 4500ℓ/min 7000ℓ/min
Mechanical Booster 250㎥/hr 600㎥/hr 1000㎥/hr 1300㎥/hr
Power DC (Sputtering) 20 ~ 30KW
RF (Etching, Bias) 60w ~ 2KW
RF Option
Ultimate Vacuum ~ x10-6 Torr

03. Suttering System
Sputter를 이용한 박막코팅장비는 반도체용 Wafer Coatin, LCD용 Glass의 ITO Coating 및 각종 Film상의 박막코팅의 목적으로 상업적으로 널리 사용 되고 있다. 또한, 각종 R&D의 목적 으로 연구소와 대학 등에서 사용되고 있다.

– A customized specification is available –

Sputtering System (Supersputty ZCS Standard Series)

Description Standard Model ZCS – 4 ZCS – 6 ZCS – 8
Cathode Type Magnetron or Diode
Target Size(mm) dia. 101.6 dia. 152.4 dia. 203.2
Number Max. 3ea Max. 3ea Max. 3ea
Substrate Size(mm) dia. 350 dia. 450 dia. 550
Rotation 1~20 rpm(Option;Magnetic Seal)
Up & Down Stroke 0 ~ 100mm(Motor Drive)
Healting 400 ~ 850 ℃
Pump Rotary & 8inch Cryogenic Rotary & 10inch Cryogenic Rotary & 12inch Cryogenic
Power Source RF or DC
Ultimate Pressure ~x10-6  Torr or less
Option Pump(Turbo Molecular/Oil Diffusion), RF Etching, Bias, APC,
Number of Target, etc.

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